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电子半导体废水怎么处理|电子半导体废水如何处理

该晶圆加工设备厂座落在华东的地区的地区,主耍产出84英寸半导体行业晶圆,平均废液减排量约800吨。由产出时候中应用大批盐酸开展晶圆蚀刻,诱发废液中氟化物氨水浓度万代高达200-300mg/L,远超国家地区减排标淮(10mg/L之下)。 污废水 化学成分及种类 废液关键出自于6个关键环节: 晶圆蚀刻工艺程序 :含高浓硫酸浓度氟化物(HF)、硝酸铵及大量血本属 电化学机制抛光剂(CMP)污水 :含纳米级级硅粉末、巧妙络合剂 仪器擦洗废污水 :含异丙醇、化学需氧量等生产物 工作工艺步奏步奏 选用"化工滤渣+沥青混凝土滤渣+厚度过虑"三级考试操作软件: 二级处置 :加药氯化钙和氢空气氧化钙,变成氟化钙沉淀出的,氟化物避开率达85% 中级办理 :修改PAC(聚合物氯化铝)和PAM(聚乙烯塑料酰胺),弄掉氢氧化铁态被污染的物 三级考试治理 :用多媒介油烟净化器器和活力性炭吸出,有水出氟化物渗透压安全在8mg/L一下 关健装备主要包括:pH重新调理系統、斜管放置池、板框压滤设备(生活污水脱水情况)。 终结功效 大型项目运营五年期监控数据分析呈现: 氟化物平衡含量:7.2mg/L(小于我国标准规范) COD消除率:92% 活性污泥含水分率:≤65% 年回笼氟化钙副护肤品约150吨,控制影视污泥处置采取

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