某光电器件生产制造厂家因晶圆拆洗流程产生了含氨焦化废水，水流量200吨/天。焦化废池里除氧化还原电位外还有效氟化物和少量巨资属，处置关卡大。本土直接排放标准决定规定条件氧化还原电位＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 电镀废水化学物质及起源 晶圆擦洗化工废水（一般来原）：含氟化物200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀工作电镀废水：含轻微铜、镍等高价属，pH值变化大 CMP抛光污废水 ：含硅颗粒状及氧化还原电位 办理工艺程序程序 按照"生物析出+膜分離+折点氯化"结合加工： 预操作 ：添加CaCl2除氟，操纵pH在7.5-8. 超滤膜系统化 ：去掉0.01μm以内粉末物 反侵入提液 ：将氯离子精提至1000mg/L以下 折点氯化 ：明确操控氯污泥脱水量，将氟化物和转化了为氦气 铁离子相互交换 ：安全保障高价属不合格 决定成效 挥发酚平稳＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 巨资属分量不超过在线检测限 水造纸废水处理率达75% 淤泥会产生量限制40%